Amanhã (27) será o último dia para inscrição no Simpósio sobre Estruturas de Polímeros, organizado pela Sociedade Brasileira de Cristalografia. O evento será realizado no dia 25 de fevereiro, em Campinas (SP), no campus do Laboratório Nacional de Luz Síncrotron (LNLS), vinculado ao Ministério da Ciência e Tecnologia. Os participantes irão debater técnicas e resultados de estudos estruturais de polímeros, feitos com o uso de luz síncrotron.

O simpósio reunirá os pesquisadores Wim Bras, que coordena a linha de luz destinada a estudo de polímeros no European Synchrotron Radiation Facility (ESRF), em Grenoble (França), Rufina Alamo, da Universidade do Estado da Flórida (USA), Elias Hage, da Universidade Federal de São Carlos (UFSCar), Tito Bonagamba e Roberto Faria, do Instituto de Física de São Carlos (IFSC/USP), e Harry Westhfahl Jr., do LNLS.

As inscrições devem ser feitas via página eletrônica do LNLS: https://www.lnls.br

(Com informações da Assessoria de Imprensa do LNLS)